| 10:00 | Begrüßung Dr. H.-P. Schmitz, ThyssenKrupp Steel Europe AG |
| 10:20 | Vergleich von GD-OES mit röntgenanalytischen Methoden am Beispiel von Schicht- und Grenzflächenanalysen in der Stahlindustrie T. Brixius, M. Gosens, J. Müller, M. Stang, N. Weiher |
| 10:45 | Einsatz kleiner Sputterquellen in der Glimmlampenspektrometrie V. Hoffmann, V. Brackmann, M. Analytis |
| 11:40 | Mikrosekunden gepulste Glimmentladungsspektrometrie M. Voronov, V. Hoffmann |
| 12:05 | Automatische Untergrundkorrektur - Optimierung der Kalibrationsgeraden in der GDOES R. Meihsner |
| 12:30 | Diskussion |
| 14:00 | Thin Film Analysis with Pulsed Fast Flow Glow Discharge Mass Spectrometry J. Hinrichs, K. Putyera |
| 14:25 | Analyse von Oberflächen und Schichten mittels Plasma Profiling Mass Spectrometry (PPMS) R. Nehm |
| 14:50 | Application of solution doped powder pellets for the analysis of pure copper using Plasma Profiling TOFMS H. Traub , A. Tempez, P. Chapon, N. Jakubowski |
| 09:00 | Tiefenprofilanalyse an Oxidationsschutzschichten auf Mo-9Si-8B-Legierungen mit optischer Glimmentladungs-Emissionsspektroskopie - Vergleich zwischen Geräten mit CCD-Detektor und Photomultiplier A. Lange, A.Ebach-Stahl, V. Brackmann, V. Hoffmann |
| 09:25 | Wasserstoffbestimmung in Stahl mit Hilfe der Glimmentladungsspektroskopie (GD-OES) - ist das möglich? S. Weyler, A. Bengtson, G. Müller, N. Weiher, A. Wucher |
| 10:10 | Selektive Anregung in der Glimmentladung - Ist das in der praktischen Elementaranalyse wichtig? E.B.M. Steers, S. Mushtaq |
| 10:45 | GD-OES: Examples of links between fundamentals, instrumentation and applications Z. Weiss |
| 11:30 | Grundlagen zur GDOES-Tiefenprofilanalytik von Nanoschichten M. Köster |
| 11:55 | Abschlussdiskussion |
| 13:30 | Laborrundgang ThyssenKrupp Steel Europe AG FuE Werkstoffcharakterisierung |